Boston Micro Fabrication erhält U.S.-Patent für 3D-Drucktechnologie mit doppelter Auflösung im Mikrobereich
Neues Patent schützt die Kerninnovation des microArch® D1025 Druckers von BMF
Maynard, Mass. // 28. Oktober 2025 // Boston Micro Fabrication (BMF), ein weltweit führender Anbieter von 3D-Drucklösungen mit Mikropräzision, gab heute bekannt, dass das US-Patentamt das US-Patent Nr. 12,420,486 B2 mit dem Titel "Multi-Scale System for Projection Micro Stereolithography" erteilt hat. Das Patent schützt BMFs bahnbrechendes optisches System mit doppelter Auflösung, eine Schlüsselinnovation hinter dem microArch® D1025 Drucker des Unternehmens.
Das patentierte System ermöglicht einen schnellen, hochauflösenden 3D-Druck über größere Bauflächen, indem es mehrere Projektionslinsen mit unterschiedlichen Abbildungsverhältnissen - z. B. Auflösungen von 10 und 25 Mikrometern - in einen einzigen optischen Pfad integriert. Dank dieses Doppellinsendesigns kann der Drucker bei Bedarf dynamisch zwischen den Auflösungen wechseln und so sowohl die Detailgenauigkeit als auch den Durchsatz optimieren, ohne die Präzision zu beeinträchtigen.
"Dieses Patent unterstreicht unsere Führungsrolle in der additiven Fertigung mit ultrahoher Präzision", sagte John Kawola, CEO von Boston Micro Fabrication. "Die Architektur mit doppelter Auflösung bietet eine einzigartige Kombination aus Geschwindigkeit und Genauigkeit, die es Ingenieuren ermöglicht, Mikroteile mit komplizierten feinen Merkmalen und größeren Geometrien in einem einzigen Druckvorgang zu fertigen.
Die Innovation stellt einen bedeutenden Fortschritt in der Projection Micro Stereolithography (PµSL)-Technologie dar und erweitert das Potenzial für den Mikro-3D-Druck in Branchen wie Medizintechnik, Elektronik, Photonik, Mikrofluidik und Forschung. Durch die automatische Zuteilung feiner 10-Mikrometer-Belichtungen für kritische Merkmale und 25-Mikrometer-Belichtungen für größere Bereiche ermöglicht die Technologie eine schnellere Erstellung und eine konsistente Genauigkeit im Mikrometerbereich bei komplexen Geometrien.
Das am 23. September 2025 erteilte Patent nennt die Erfinder Dr. Chunguang Xia und Dr. Jiawen Xu und ist der BMF Material Technology Inc. aus Shenzhen, China, der Muttergesellschaft von Boston Micro Fabrication, zugeordnet.
"Der microArch D1025 verkörpert unsere Mission, die Grenzen dessen, was im Mikrobereich möglich ist, zu erweitern", fügt Dr. Xia, BMF-Mitbegründer und Chief Technology Officer, hinzu. "Dieses System mit doppelter Auflösung ist nicht nur ein bedeutender optischer Durchbruch, sondern auch eine Plattform, die die nächste Generation von mikrogefertigten Geräten ermöglicht."
Der microArch D1025, der 2024 auf den Markt kommt, ist das erste kommerzielle System, das dieses patentierte duale Auflösungskonzept nutzt und einen 10-Mikrometer- und einen 25-Mikrometer-Modus im selben Drucker bietet. Das System wird in großem Umfang von Herstellern medizinischer Geräte und von Elektronikprodukten eingesetzt, die sowohl Präzision als auch Effizienz in der Produktion benötigen.
Über Boston Micro Fabrication (BMF)
Boston Micro Fabrication (BMF) ermöglicht hochpräzisen 3D-Druck im Mikromaßstab in den Bereichen Gesundheitswesen, Biowissenschaften, Elektronik und Maschinenbau. Mit der firmeneigenen PμSL-Technologie (Projection Micro Stereolithography) produzieren die Drucker des microArch-Systems die branchenweit genauesten und präzisesten hochauflösenden 3D-Drucke für Produktentwicklung, Forschung und industrielle Kleinserienproduktion. BMF wurde 2016 gegründet und hat Niederlassungen in Boston, Shenzhen, Chongqing und Tokio. Für weitere Informationen über BMF besuchen Sie bitte www.bmf3d.com oder folgen Sie dem Unternehmen auf LinkedIn.
Medienkontakt
Laura Galloway
Direktorin für Marketing
lgalloway@bmf3d.com
